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本文转载自三影堂摄影艺术中心（微信号：threeshadows）

本次《植田正治回顾展》自开幕以来，受到国内外观众的广泛关注和好评。三影堂教育部门特别推出展览设计课程，将荣幸邀请《植田正治回顾展》展览设计师大内修先生来到北京亲自授课和讲解。报名的学员将有机会与大内修面对面交流，名额有限，即将报满，抓紧最后机会！

讲师介绍

大内修丨Osamu Ouchi

毕业于多摩美术大学平面设计系, 在Ikko Tanaka的设计工作室工作期间，大内修研究了Rinpa学校和京都的美感。他曾参与多个知名品牌的海报，图形，空间的设计工作。

–  MujirushiRyohin，

– 资生堂

– ISSEI MIYAKE，

– TOTO GALLERY·MA

– 银座图片库

– Salvatore Ferragamo诞辰100周年等项目

– 三影堂植田正治回顾展的展览设计师

– 个人设计工作室“纳米/纳米图形”

平面和空间设计是他创作的重点，他的设计作品涵盖了从图形到空间，主要用于展览，商店、书籍。

课程特色

通过这个课程你可以学到：

• 日本设计师一对一亲自交流指导

• 对个人设计作品点评、以及职业发展规划建议

• 经典设计案例分析、展览设计与空间关系的学习

• 创意思维和批判性思维训练

• 培养团队合作与交流能力

• 在老师亲自指导下独立完成个人作品

课程安排

11月17-18日

第一天上午

Day1: 10:30 am – 12:30 am ——讲座: 介绍展览设计基本理念，并结合经典项目进行实例分析创作理念和制作过程

• SALVATORE FERRAGAMO

• CHANEL NEXUS HALL

• Canon Gallery

• KYOTOGRAPHIE

下午

1:30 pm – 3:30 pm——现场分析展览空间：对《植田正治回顾展》亲自进行展览设计分析

4:00 pm – 6:00 pm——学习交流：根据早上内容与老师进行探讨与分析

第二天

Day2: 10:30 am – 17:30 pm——展览空间模型制作+个人作品集指导

• 参与者对个人设计提出主题和概念

• 参与者进行模型设计和阐述

• 圆桌会议、评论、指导

• 老师对个人作品集进行一对一的指导和点评

参与细节

费用：3000 元/人

学习期间配有专业的日语翻译

课前请准备个人的作品集

地点：北京三影堂摄影艺术中心

人数：限 20人（学生即将报满）

（为保证每一个学员的学习质量，讲座和工作坊是一个学习模块，不可只选择其一）

课程咨询：13927396772 / hujiawen@threeshadows.cn

购买请点击“阅读原文”进入页面

大内修部分作品

 CHANEL Naoki lshikawa

CHANEL ALASKA

KYOTOGRAPHIE MAPPLETHORPE

Saul Letiter

RAKU2

CHANEL Lilian Bassman

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