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11月17日~18日,来与日本著名展览设计师来一场面对面交流吧!

2018年11月16日 14:57

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本文转载自三影堂摄影艺术中心(微信号:threeshadows)


本次《植田正治回顾展》自开幕以来,受到国内外观众的广泛关注和好评。三影堂教育部门特别推出展览设计课程,将荣幸邀请《植田正治回顾展》展览设计师大内修先生来到北京亲自授课和讲解。报名的学员将有机会与大内修面对面交流,名额有限,即将报满,抓紧最后机会!




讲师介绍




大内修丨Osamu Ouchi


毕业于多摩美术大学平面设计系, 在Ikko Tanaka的设计工作室工作期间,大内修研究了Rinpa学校和京都的美感。他曾参与多个知名品牌的海报,图形,空间的设计工作。

-  MujirushiRyohin,

- 资生堂

- ISSEI MIYAKE,

- TOTO GALLERY·MA

- 银座图片库

- Salvatore Ferragamo诞辰100周年等项目

- 三影堂植田正治回顾展的展览设计师

- 个人设计工作室“纳米/纳米图形”

平面和空间设计是他创作的重点,他的设计作品涵盖了从图形到空间,主要用于展览,商店、书籍。



课程特色




通过这个课程你可以学到:



课程安排




11月17-18日



第一天上午

Day1: 10:30 am - 12:30 am ——讲座: 介绍展览设计基本理念,并结合经典项目进行实例分析创作理念和制作过程

下午

1:30 pm - 3:30 pm——现场分析展览空间:对《植田正治回顾展》亲自进行展览设计分析

4:00 pm - 6:00 pm——学习交流:根据早上内容与老师进行探讨与分析


第二天

Day2: 10:30 am - 17:30 pm——展览空间模型制作+个人作品集指导



参与细节


费用:3000 元/人

学习期间配有专业的日语翻译

课前请准备个人的作品集

地点:北京三影堂摄影艺术中心

人数:限 20人(学生即将报满)

(为保证每一个学员的学习质量,讲座和工作坊是一个学习模块,不可只选择其一)

课程咨询:13927396772 / hujiawen@threeshadows.cn

购买请点击“阅读原文”进入页面



大内修部分作品


 CHANEL Naoki lshikawa

CHANEL ALASKA


KYOTOGRAPHIE MAPPLETHORPE


Saul Letiter


RAKU2


CHANEL Lilian Bassman


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